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Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對(duì)基底和周圍環(huán)境的熱負(fù)荷極小。

Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器是一種用于高精度薄膜沉積的edge-cutting工具。它適用于研究和生產(chǎn)環(huán)境，這種緊湊的系統(tǒng)利用電子束直接加熱坩堝中的蒸發(fā)物，能夠以的控制力沉積金屬。與傳統(tǒng)的熱蒸發(fā)方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，對(duì)基底的熱負(fù)荷更低，并且能夠同時(shí)共蒸發(fā)多種材料，使其成為各種涂層應(yīng)用中多功能且可靠的解決方案。

Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒，以在樣品上創(chuàng)建功能化表面。 可以通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu)來定制納米顆粒涂層的特性，從而實(shí)現(xiàn)定制化特性。

Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上?？梢哉{(diào)整膜的密度，并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇，包括單個(gè)1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允許單獨(dú)或作為合金沉積多達(dá)三種材料。

NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)納米顆粒的尺寸分布，通過質(zhì)量過濾器按質(zhì)量或直徑實(shí)時(shí)掃描或過濾沉積的納米顆粒，從而促進(jìn)生長條件的優(yōu)化。

Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統(tǒng)是一款超多功能的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。NL-FLEX可以容納各種類型的基底，包括卷對(duì)卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，包括催化、光子學(xué)、能量存儲(chǔ)、傳感器和生命科學(xué)。這種模塊化的PVD沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您提供定制化的研究解決方案。